解析高溫坩堝的工藝特點
現在高溫坩堝的使用還是比較廣泛的,應用的時候我們可以按照一些相應的工藝特點,去使用它們,對于一些工藝特點,我們在進行了解之后,對于它的使用效率就會大大提高,所以,在使用之前需要我們去了解一下相應的工藝特點,下面我們就來具體說一下,它的工藝特點是什么?下面就是具體的一些介紹。
1、現代拉單晶的高溫坩堝,一般是采用電弧法生產,半透明狀,是拉制大直徑單晶硅,發展大規模集成電路必不可少的基礎材料。
2、現代的高溫坩堝,會存在二種結構,分為外側和內側。其中外側是一層具有高氣泡密度的區域,稱為氣泡復合層,內側則是一層3~5mm的透明層,稱之為氣泡空乏層。
3、氣泡復合層的目的,是在與均勻的輻射有加熱器所提供的輻射熱源。
以上也具體講述了有關于高溫坩堝的一些工藝特點的一些相關介紹,知道了這些,我們以后使用它來進行實驗操作的時候,能夠通過一定的工藝特點,來使用它們。在一些應用之中,也會利用好一些相關的工藝特點,應用,實驗。在使用之前對于產品的一些工藝特點的了解還是比較好的。